文化部后院。
一间不对外开放的会客室。
窗外是几竿翠竹，屋里只有两杯清茶。
钱院士坐在红木圈椅里，腰杆挺得笔直。
他看着对面的张红旗。
“那份报告，我看过了。”
老头声音不高，每个字都砸在桌上。
“写得很好，很有远见。”
“但是。”
老头话锋一转。
“光有远见，没用。”
“半导体，光子学，这是硬骨头，是天底下最精密的学问。”
“不是靠钱，靠想象力，就能搞出来的。”
他盯着张红旗的眼睛，一字一顿地问。
“你，一个拍电影的。”
“懂这些吗？”
这个问题，很尖锐。
甚至有点不留情面。
张红旗没接话。
他从随身的公文包里，拿出一张纸。
一张折叠起来的A3大小的绘图纸。
纸张边缘已经有些毛糙。
张红旗把纸，在桌上摊开。
推到钱院士面前。
那是一张手绘的草图。
用铅笔画的线条清晰，标注密集。
钱院士低头看去。
只一眼，他的目光就定住了。
图上画的是一个极其复杂的机器结构。
分成了四个核心模块。
张红旗的手指，在图上轻轻点过。
“光源。”
“物镜系统。”
“掩膜台。”
“硅片台。”
钱院士的呼吸，停了一下。
他当然认得出来这是什么。
这是光刻机的核心架构。
但让他心惊的不是这个架构图本身。
而是图上那些密密麻麻的手写的标注。
全是英文和德文的缩写，夹杂着公式和参数。
“光源：LPP-EUV，功率要求大于250W，能量转换效率大于5%。”
“物镜：13片非球面反射镜，材料，ULE玻璃，表面粗糙度小于0.1纳米。”
“掩膜台：磁悬浮，同步运动精度小于2纳米。”
钱院士的眼睛，越瞪越大。
这些参数，每一个，都像一颗子弹。
精准地打在他几十年的科研认知上。
国内现在连DUV都还在理论摸索阶段。
这张图，直接跳到了EUV。
而且，给出的指标，比他从国外老同学那里听到的最前沿的实验室数据，还要激进，还要精确。
这根本不是一份方案。
这是一份来自未来的施工图纸。
钱院士的手，下意识地伸过去。
想要抚摸那张图纸。
手指，却在半空中停住了。
有点抖。
他的视线，落在了图纸的一个角落。
那里画着一个反射镜组的截面图。
旁边有一行小字。
“Mo/Si多层膜反射镜，每层厚度3-4纳米，总层数大于80层。”
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